| 镀液组成对Ni-W合金电沉积的影响 |
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| 引用本文： | 杨防祖,曹刚敏,郑雪清.镀液组成对Ni-W合金电沉积的影响[J].材料保护,1999,32(8):1-3. |
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| 作者姓名： | 杨防祖 曹刚敏 郑雪清 |
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| 作者单位： | 厦门大学化学系!361005 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金!资助项目（项目批准号：29773039） |
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| 摘 要： | 采用电化学、分光光度、Ｘ 射线衍射和金相显微技术等方法研究Ｎｉ－Ｗ 合金电沉积电流效率、沉积层的组成、结构和表面形态。结果表明，随着镀液中钨酸钠浓度提高，合金沉积层中的Ｗ 含量变化不大，沉积电流效率提高；形成置换固溶体的合金沉积层Ｘ 射线衍射（ＸＲＤ）峰强度降低，趋于矮胖，２θ向低角度偏移；引起（１１１）晶面间距、晶胞参数和晶格畸变的增大，而显微晶粒尺寸减小；合金沉积层的电结晶生长形态逐渐呈均匀排列的团粒状。
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| 关 键 词： | Ni-W合金 电沉积 结构 形态 |
Effect of Electrolyte Composition on Electrodeposition of Ni-W Alloy |
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| Yang Fangzu,Gao Gangmin,Zheng Xueqing.Effect of Electrolyte Composition on Electrodeposition of Ni-W Alloy[J].Journal of Materials Protection,1999,32(8):1-3. |
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| Authors: | Yang Fangzu Gao Gangmin Zheng Xueqing |
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