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高速大功率半导体开关RSD的di/dt耐量极限值
引用本文:刘宝生,余岳辉,梁琳,周郁明.高速大功率半导体开关RSD的di/dt耐量极限值[J].通信电源技术,2006,23(5):1-2,8.
作者姓名:刘宝生  余岳辉  梁琳  周郁明
作者单位:华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074
基金项目:国家自然科学基金资助项目(50277016)
摘    要:文章由等离子体双极漂移方程和临界预充电荷条件出发,得出高速大功率半导体开关RSD的di/dt耐量表达式。从外电路和器件结构本身两方面分析了RSD的di/dt耐量的影响因素,并提出了改善di/dt耐量的措施,测试结果证明了理论分析的正确性。

关 键 词:脉冲功率技术  RSD  半导体开关  di/dt特性
文章编号:1009-3664(2006)05-0001-02
收稿时间:2006-05-26
修稿时间:2006-05-26

The di/dt Limit Values of Hi-Speed and Hi-Power Semiconductor Switch RSD
LIU Bao-sheng,YU Yue-hui,LIANG Lin,ZHOU Yu-ming.The di/dt Limit Values of Hi-Speed and Hi-Power Semiconductor Switch RSD[J].Telecom Power Technologies,2006,23(5):1-2,8.
Authors:LIU Bao-sheng  YU Yue-hui  LIANG Lin  ZHOU Yu-ming
Abstract:We get the expression of di/dt bearing of pulsed power semiconductor switch RSD which is based on equation of plasma bipolar drift and the critical condition of stored charge.We analyzed the influence factors of di/dt bearing of RSD from two aspects of outer circuit and devices' own structure.Some measures which can improve di/dt bearing have been proposed.The testing results proved the theoretical analysis.
Keywords:pulsed power technology  RSD  semiconductor switch  di/dt characteristics
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