衍射光栅 |
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引用本文: | 魏景明.衍射光栅[J].仪表技术与传感器,1978(6). |
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作者姓名: | 魏景明 |
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摘 要: | 大多数现代光栅是在刚性基片上的有金属镀层的胶膜复制品,胶膜复制品由母光栅复制得来。母光栅的制作方法有两种:一种是机械刻划,即用金刚石刀具在柔软的金属薄膜上划出一些间距均匀的刻槽;另一种是用涂有光致抗蚀剂的毛坯对大功率激光器产生的干涉条纹进行曝光。本文对平面和凹面光栅制作的主要方法做了叙述。性能测试主要是衍射效率和衍射波前的完善度。成象缺陷主要表现是降低了分辨率。刻槽间距缺陷则表现为鬼线、杂散光和伴线。这些都将予以评论。
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