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| HF气相刻蚀技术及其在MEMS加速度计中的应用 | |
| 引用本文： | 方佼,於广军,闻永祥,马志坚,季锋,闵猛猛.HF气相刻蚀技术及其在MEMS加速度计中的应用[J].中国集成电路,2016(4):73-77. |
| 作者姓名： | 方佼 於广军 闻永祥 马志坚 季锋 闵猛猛 |
| 作者单位： | 杭州士兰集成电路有限公司 |
| 摘 要： | 本文介绍了一种用于微结构干法释放的HF气相刻蚀技术。通过调节工艺参数(包括腔体压力,HF流量,乙醇流量,氮气流量)研究其对二氧化硅刻蚀速率和均匀性的影响,得到刻蚀速率在500魡/min左右,均匀性5%左右的工艺菜单。该技术运用于MEMS加速度计中,成功实现了梳齿结构和质量块的无粘连释放。 |
| 关 键 词： | 气相氟化氢 牺牲层腐蚀 无粘连释放 刻蚀速率和均匀性 微加速度计 |
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