| 基片表面状态对Pb1-xGexTe薄膜红外光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 谢平.基片表面状态对Pb1-xGexTe薄膜红外光学性能的影响[J].红外,2010,31(9):14-17. |
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| 作者姓名： | 谢平 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083 |
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| 摘 要： | 在高真空中用热蒸发的方法沉积了碲锗铅Pb1-xGexTe薄膜。分析了基片表面状态(粗糙度、
晶向、温度)对膜层结构和红外光学特性的影响，发现光滑表面容易得到致密膜层和高红外折射率；
随着沉积温度的增加，膜层的短波吸收边(λc)往长波方向移动。
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| 关 键 词： | Pb1-xGexTe 表面状态 红外薄膜 光学常数(n k) |
| 收稿时间： | 5/6/2010 12:00:00 AM |
| 修稿时间： | 2010/6/17 0:00:00 |
Influence of Substrate Surface Status on Infrared Optical Characteristics of Pb1-xGexTe Films |
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| xieping.Influence of Substrate Surface Status on Infrared Optical Characteristics of Pb1-xGexTe Films[J].Infrared,2010,31(9):14-17. |
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| Authors: | xieping |
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| Affiliation: | Shanghai Insitute of Technical Physics of The Chinese Academy of Sciences |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Pb1-xGexTe surface status infrared film optical constants (n k) |
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