| 靶基间距对电弧离子镀中大颗粒形貌和分布的影响 |
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| 引用本文： | 魏永强,贾爱芹,蒋志强,冯宪章,文振华,田修波.靶基间距对电弧离子镀中大颗粒形貌和分布的影响[J].金属热处理,2014(7). |
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| 作者姓名： | 魏永强 贾爱芹 蒋志强 冯宪章 文振华 田修波 |
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| 作者单位： | 郑州航空工业管理学院机电工程学院;航空制造及装备河南省高校工程技术研究中心;哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室; |
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| 基金项目： | 航空科学基金(2012ZE55011);河南省科技厅基础与前沿技术研究(132300410241)和科技攻关(14210220504);河南省高校科技创新团队(2012IRTSTHN014) |
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| 摘 要： | 利用电弧离子镀方法在基体上制备了TiN薄膜,研究了靶基间距对大颗粒形貌和分布规律的影响。采用扫描电子显微镜(SEM)观察了TiN薄膜的表面形貌,利用Image J科学图像软件对Ti大颗粒的数目和尺寸进行了分析。结果表明:随着靶基间距的增加,薄膜表面的大颗粒数目迅速降低,在靠近弧源最近的15 cm位置处大颗粒数目最多,出现了典型的长条状形貌,同时大颗粒所占的面积比也最大。为了兼顾薄膜的沉积速率和消除大颗粒缺陷的不利影响,最佳的靶基距离为20~30 cm。
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| 关 键 词： | 电弧离子镀 薄膜 大颗粒 分布 |
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