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| 直流偏压对铝合金表面高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜耐蚀性的影响 | |
| 引用本文： | 李春伟,田修波,刘天伟,秦建伟,巩春志,杨士勤.直流偏压对铝合金表面高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜耐蚀性的影响[J].稀有金属材料与工程,2013,42(1):109-113. |
| 作者姓名： | 李春伟 田修波 刘天伟 秦建伟 巩春志 杨士勤 |
| 作者单位： | 1. 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室,黑龙江哈尔滨150001;东北林业大学森林持续经营与环境微生物工程黑龙江省重点实验室,黑龙江哈尔滨150040 2. 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室,黑龙江哈尔滨,150001 3. 中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室,四川绵阳,621900 |
| 基金项目： | 表面物理与化学国家重点实验室开放基金资助项目(SPC201104) |
| 摘 要： | 采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)法,在工业纯铝基体上生长得到V薄膜,研究不同直流偏压对薄膜相结构、形貌及不同温度处理对耐蚀性的影响。结果表明,薄膜相结构为单一的V(111)相。薄膜表面光滑、平整,且随偏压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,最小仅为0.488nm。薄膜沉积过程中离子吸引效应和溅射效应的竞争导致薄膜沉积速率随着偏压的增大先减小后增大。20℃时镀V薄膜样品在偏压为-100V时耐蚀性最佳,其腐蚀电位比基体提高了0.425V,腐蚀电流下降了2个数量级以上。镀V薄膜样品经过200和300℃加热处理后,其耐蚀性提高,但是与基体相比,经200℃处理后的镀V薄膜样品腐蚀电流最大降低了1个数量级,而经300℃处理后的镀V薄膜样品耐蚀性与基体相比提高并不明显。 |
| 关 键 词： | 高功率脉冲磁控溅射 V薄膜 直流偏压 铝合金 耐蚀性 |
| 收稿时间： | 2012/1/15 0:00:00 |
Influence of DC Bias on Corrosion Resistance of Vanadium Films on Aluminum Fabricated by High Power Pulsed Magnetron Sputtering Method |
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| Li Chunwei,Tian Xiubo,Liu Tianwei,Qin Jianwei,Gong Chunzhi and Yang Shiqin.Influence of DC Bias on Corrosion Resistance of Vanadium Films on Aluminum Fabricated by High Power Pulsed Magnetron Sputtering Method[J].Rare Metal Materials and Engineering,2013,42(1):109-113. | |
| Authors: | Li Chunwei Tian Xiubo Liu Tianwei Qin Jianwei Gong Chunzhi and Yang Shiqin |
| Affiliation: | State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China |
| Abstract: | |
| Keywords: | high power pulsed magnetron sputtering vanadium films DC bias aluminum corrosion resistance |
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