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苯甲酰胺对高岭石插层的FTIR和XRD研究
作者姓名:张生辉  强颖怀  欧雪梅  夏华
作者单位:中国矿业大学材料科学与工程学院,江苏,徐州,221008;中国地质大学材料科学与化学工程学院,湖北,武汉,430074
基金项目:中国矿业大学青年基金,中国矿业大学科技专项基金 
摘    要:苯甲酰胺在熔融状态下取代前驱体中的DMSO分子插层高岭石,产物经丙酮洗涤,得到纯净的高岭石/苯甲酰胺插层复合物。XRD结果显示高岭石层间距从0.717 nm膨胀到1.437 nm。插层作用使高岭石内表面羟基红外伸缩振动峰由3 696和3 657 cm-1移动至3 701和3 651 cm-1处;苯甲酰胺3 368和3 172 cm-1处NH2基伸缩振动峰红移至3 474和3 184 cm-1处,1 659 cm-1处羰基峰移至1 640 cm-1处,这些表明原高岭石层间氢键的损失及与苯甲酰胺分子之间氢键的形成。插层反应于30 min迅速达到平衡,插层率随反应温度的增加先增加后减小,180 ℃时有最大插层率;以丙酮作为洗涤剂可以消除表面吸附和残余的苯甲酰胺晶体而不影响复合物的结构。

关 键 词:高岭石  苯甲酰胺  插层  XRD  FTIR
收稿时间:2008-03-28
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