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TiO2掺杂对ZnO压敏电阻低压化过程的影响
引用本文:何忠伟,徐政,孙丹峰.TiO2掺杂对ZnO压敏电阻低压化过程的影响[J].硅酸盐学报,2004,32(9):1161-1164.
作者姓名:何忠伟  徐政  孙丹峰
作者单位:1. 同济大学材料科学与工程学院,上海,200092
2. 苏州中普电子有限公司,江苏,苏州,215011
摘    要:近年来,加入晶粒助长剂TiO2以实现低压化的低压ZnO压敏电阻发展迅速。实验所用配方为掺杂TiO2的98.3%ZnO-0.7%Bi2O3-1.0%TiO2(摩尔分数)和相应无TiO2掺杂的配方,在900~1200℃下烧结制备样品。给出了相分析、半定量分析及电性能测试结果。发现TiO2可以有效促进ZnO晶粒长大,降低压敏电压梯度。1100℃下,TiO2掺杂试样的平均晶粒尺寸为56.4μm,远大于无TiO2掺杂的31.8μm。大部分TiO2首先与Bi2O3反应生成Bi4(TiO4)3液相,这大大促进了ZnO晶粒生长。高于1000℃时Bi4(TiO4)3分解,分解出的TiO2与ZnO发生反应,生成Zn2TiO4尖晶石相,晶粒生长受阻,直至停止。

关 键 词:氧化锌  压敏电阻  氧化钛掺杂  晶粒长大  低压化
文章编号:0454-5648(2004)09-1161-04
修稿时间:2004年1月5日

EFFECTS OF TiO2 ADDING ON LOW-VOLTAGE ZnO VARISTOR
HE Zhongwei.EFFECTS OF TiO2 ADDING ON LOW-VOLTAGE ZnO VARISTOR[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2004,32(9):1161-1164.
Authors:HE Zhongwei
Affiliation:HE Zhongwei~
Abstract:
Keywords:zinc oxide  varistor  titania addition  grain growth  low-voltage
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