聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线耐电晕性能的研究 |
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引用本文: | 刘佳音,唐文进,周升,杨名波,陈琛.聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线耐电晕性能的研究[J].绝缘材料,2014(1). |
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作者姓名: | 刘佳音 唐文进 周升 杨名波 陈琛 |
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作者单位: | 株洲时代新材料科技股份有限公司; |
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摘 要: | 通过对聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线的工艺研究,分析了聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线的耐电晕性能。结果表明:影响聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线耐电晕性能的主要因素为烧结温度、绕包张力和红外辐射炉温度。当烧结温度为230℃,绕包张力为8 N,红外辐射炉温度为450℃时,聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线的耐电晕性能最佳。
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关 键 词: | 电磁线 烧结工艺 耐电晕性能 |
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