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非掺杂AlGaN/GaN微波功率HEMT
引用本文:陈堂胜,焦刚,薛舫时,曹春海,李拂晓.非掺杂AlGaN/GaN微波功率HEMT[J].半导体学报,2004,25(1).
作者姓名:陈堂胜  焦刚  薛舫时  曹春海  李拂晓
作者单位:南京电子器件研究所,南京,210016
摘    要:报道了研制的AlGaN/GaN微波功率HEMT,该器件采用以蓝宝石为衬底的非掺杂AlGaN/GaN异质结构,器件工艺采用了Ti/Al/Ni/Au欧姆接触和Ni/Au肖特基势垒接触以及SiN介质进行器件的钝化.研制的200μm栅宽T型布局AlGaN/GaN HEMT在1.8GHz,Vds=30V时输出功率为28.93dBm,输出功率密度达到3.9W/mm,功率增益为15.59dB,功率附加效率(PAE)为48.3%.在6.2GHz,Vds=25V时该器件输出功率为27.06dBm,输出功率密度为2.5W/mm,功率增益为10.24dB,PAE为35.2%.

关 键 词:宽禁带半导体  AlGaN/GaN  高电子迁移率晶体管  微波大功率

Undoped AlGaN/GaN Microwave Power HEMT
Abstract:
Keywords:
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