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GaN薄膜制备技术的研究进展
引用本文:赵丹,梁建,赵君芙,马淑芳,张华,许并社.GaN薄膜制备技术的研究进展[J].材料导报,2010,24(Z1).
作者姓名:赵丹  梁建  赵君芙  马淑芳  张华  许并社
作者单位:太原理工大学新材料界面科学与工程省部共建教育部重点实验室,太原,030024;太原理工大学材料,科学与工程学院,太原,030024
基金项目:山西省自然科学基金,山西省回国留学人员科研资助项目 
摘    要:综述了近年来国内外GaN薄膜制备技术的研究进展,并重点介绍了其发展历程、所使用的设备和技术、各自的优缺点及应用前景.通过比较这些技术的优缺点展望了制备GaN薄膜技术的发展前景.

关 键 词:GaN薄膜  制备技术  研究进展

Research Development on Deposition Technologies of GaN Thin Films
ZHAO Dan,LIANG Jian,ZHAO Junfu,MA Shufan,ZHANG Hua,XU Bingshe.Research Development on Deposition Technologies of GaN Thin Films[J].Materials Review,2010,24(Z1).
Authors:ZHAO Dan  LIANG Jian  ZHAO Junfu  MA Shufan  ZHANG Hua  XU Bingshe
Abstract:
Keywords:
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