Al2O3化学气相沉积工艺研究

采用ＡｌＣｌ３Ｈ２ＣＯ２化学气相沉积（ＣＶＤ）系统，在不同ＣＶＤ工艺条件下，氧化铝被沉积在预涂层ＴｉＣ的３１６ＬＳＳ、石墨和钼基体上。氧化铝涂层经ＳＥＭＸｒａｙ和电子能谱分析表明：该涂层为正化学计量致密Ａｌ２Ｏ３。工艺研究表明：温度升高使Ａｌ２Ｏ３沉积速率迅速增加；ＡｌＣｌ３浓度达２％左右，沉积速率增加缓慢；ＣＯ２浓度小于１０％时，沉积速率迅速下降。