首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

GaN基HEMT失效热点行为研究
引用本文:廖周林,区炳显,王燕平,李金晓,闫大为.GaN基HEMT失效热点行为研究[J].微电子学,2023,53(1):170-174.
作者姓名:廖周林  区炳显  王燕平  李金晓  闫大为
作者单位:江南大学 电子工程系 物联网技术应用教育部工程研究中心, 江苏 无锡 214122
基金项目:无锡市科技发展基金资助项目(WX0301B013602200004PB)
摘    要:研究了GaN基HEMT器件的失效热点行为。当VGS>Vth时,漏极电流ID主要为漏-源导通电流IDS,输运机制为漂移;当VGSth时,ID主要为反向栅-漏电流IGD,输运机制为与可导位错有关的Fowler-Nordheim隧穿。通过分析VGS和VDS变化对热点分布的影响,表明栅极边界耗尽沟道内形成的强横向电场与势垒层内的强垂直电场分别是IDS和IGD电流形成热点的主要原因;同时,还测量了热点的微光光谱,并根据临界电场与最大光子能量得到了电子的平均自由程,约为60 nm。

关 键 词:GaN基HEMT  失效热点  高场区  热电子
收稿时间:2022/2/8 0:00:00

Study on the Failure Hot Spots Behavior in GaN-Based HEMT
LIAO Zhoulin,OU Bingxian,WANG Yanping,LI Jinxiao,YAN Dawei.Study on the Failure Hot Spots Behavior in GaN-Based HEMT[J].Microelectronics,2023,53(1):170-174.
Authors:LIAO Zhoulin  OU Bingxian  WANG Yanping  LI Jinxiao  YAN Dawei
Affiliation:Engineering Research Center of IoT Technology Applications Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, Jiangnan University, Wuxi, Jiangsu 214122, P. R. China
Abstract:
Keywords:GaN-based HEMT  failure hot spot  high field region  hot electron
点击此处可从《微电子学》浏览原始摘要信息
点击此处可从《微电子学》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号