甲基丙烯酸树脂的合成及在负性光致抗蚀剂中的应用 |
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引用本文: | 郑祥飞,刘敬成,刘仁,刘晓亚.甲基丙烯酸树脂的合成及在负性光致抗蚀剂中的应用[J].高分子材料科学与工程,2014(12):34-38. |
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作者姓名: | 郑祥飞 刘敬成 刘仁 刘晓亚 |
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作者单位: | 江南大学化学与材料工程学院; |
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摘 要: | 以甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯(MAd MA)为单体,通过自由基聚合制备了不同MAd MA含量的共聚物PMMHM,再与甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)反应制得光敏共聚物PMMHM-G。用傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱、凝胶渗透色谱、差示扫描量热等表征了聚合物的结构与性能;以PMMHM-G为基体树脂配制了光致抗蚀剂,测试了抗蚀剂膜的硬度与附着力,并用扫描电子显微镜观测了光致抗蚀剂的分辨率。结果表明,随着MAd MA含量升高,共聚物的相对分子质量下降,玻璃化转变温度升高,树脂的耐碱性增强,光致抗蚀剂的硬度和附着力良好,分辨率达50μm。
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关 键 词: | 甲基丙烯酸 光敏共聚物 负性光致抗蚀剂 应用 |
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