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PZT薄膜的研究进展
引用本文:陈菊芳,刘常升,陈岁元,张滨,尚丽娟.PZT薄膜的研究进展[J].材料与冶金学报,2002,1(2):83-86,135.
作者姓名:陈菊芳  刘常升  陈岁元  张滨  尚丽娟
作者单位:1. 东北大学,材料与冶金学院,辽宁,沈阳,110004
2. 东北大学,材料与冶金学院,辽宁,沈阳,110004;沈阳工业大学,材料科学与工程学院,辽宁,沈阳,110023
摘    要:综述了PZT薄膜的制备方法,从电极,微观结构和化学成分,生长方向,多层膜结构以及机械应力对性能的影响五个方面介绍了PZT薄膜的研究进展,提出了PZT薄膜存在的主要问题和发展方向。

关 键 词:研究进展  压电性  钙钛矿结构  热电性  烧绿石  外延生长  PZT薄膜  压电陶瓷
文章编号:1671-6620-(2002)02-0083-04

Research Progress in PZT Thin Films
CHEN Ju fang ,LIU Chang sheng ,CHEN Sui yuan ,ZHANG Bin ,SHANG Li juan.Research Progress in PZT Thin Films[J].Journal of Materials and Metallurgy,2002,1(2):83-86,135.
Authors:CHEN Ju fang  LIU Chang sheng  CHEN Sui yuan  ZHANG Bin  SHANG Li juan
Affiliation:CHEN Ju fang 1,LIU Chang sheng 1,CHEN Sui yuan 1,ZHANG Bin 1,SHANG Li juan 1,2
Abstract:The fabrications of PZT thin films are discussed. The research progress in PZT thin films are introduced from five aspects: electrodes, microstructure and stoichiometry, growth orientation, multilayers structure and effect of external stress on properties.The main problems and directions of development in PZT thin films are presented
Keywords:piezoelectric  perovskite  pyroelectric  pyrochlore  epitaxy growth  PZT thin film
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