首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

P〈111〉硅磨片表现损伤的研究
引用本文:刘峥,翟富义.P〈111〉硅磨片表现损伤的研究[J].稀有金属,1997,21(2):139-143.
作者姓名:刘峥  翟富义
摘    要:

关 键 词:硅片  损伤层  位错  单晶硅  表面损伤
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号