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| NEC研究先进的Al─ Ge─ Cu工艺 | |
| 引用本文： | 东立.NEC研究先进的Al─ Ge─ Cu工艺[J].微电子学,1996(5). |
| 作者姓名： | 东立 |
| 摘 要： | ＮＥＣ研究先进的Ａｌ┐Ｇｅ┐Ｃｕ工艺据ＳｅｍｉｃｏｎｄＩｎｔｌ１９９６年第６期报道：ＮＥＣ公司的研究人员正在不断观察Ｇｅ加入Ａｌ－Ｃｕ互连后的作用，以得到一种有实际生产价值的低温回流溅射工艺。这种使用低温回流溅射和化学机械抛光金属平坦化的Ａｌ－Ｇｅ... |
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