| 氮化铝薄膜的椭偏法研究 |
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| 引用本文： | 周扬,梁海锋,严一心,蔡长龙.氮化铝薄膜的椭偏法研究[J].激光与红外,2007,37(6):548-551. |
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| 作者姓名： | 周扬 梁海锋 严一心 蔡长龙 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电工程学院,陕西,西安,710032 |
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| 摘 要： | 文章采用真空磁过滤电弧离子镀法在单晶Si(100)基片上成功制备了氮化铝(AlN)薄膜,并利用椭偏法对AlN膜进行了研究.根据沉积方法的特点,建立合适的膜系进行拟合,得到薄膜的折射率、消光系数和几何厚度;分析薄膜与基片之间的附着方式为简单附着,以及引起薄膜材料比块体材料折射率偏小的原因为:薄膜中含有空隙,Al/N不符合化学剂量比,薄膜表面形成了Al2O3钝化层.
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| 关 键 词： | 椭偏仪 AlN薄膜 光学常数 氮化铝 铝薄膜 椭偏法 研究 Ellipsometry Thin Films 钝化层 面形 剂量比 化学 块体材料 薄膜材料 附着 分析 几何厚度 消光系数 折射率 拟合 膜系 沉积方法 |
| 文章编号： | 1001-5078（2007）06-0548-04 |
| 修稿时间： | 2006-11-07 |
Study on AlN Thin Films with Ellipsometry |
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| ZHOU Yang,LIANG Hai-feng,YAN Yi-xin,CAI Chang-long.Study on AlN Thin Films with Ellipsometry[J].Laser & Infrared,2007,37(6):548-551. |
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| Authors: | ZHOU Yang LIANG Hai-feng YAN Yi-xin CAI Chang-long |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ellipsometer AlN thin films optical constant |
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