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| 铜及其合金的稀酸化学抛光 | |
| 引用本文： | 吴天材.铜及其合金的稀酸化学抛光[J].电镀与涂饰,1991,10(3):33-38. |
| 作者姓名： | 吴天材 |
| 作者单位： | 华南理工大学化学系 |
| 摘 要： | 本文研究了铜及其合金在稀酸溶液中化学抛光的效果,并对酸的种类、浓度、过氧化氢、脂肪醇、温度、时间等的影响进行了讨论.认为合适的化学抛光溶液和工作条件为:H_2SO_42～6mL/L,H_2O_2100～150mL/L,乙醇40～60mL/L,时间15～30分,温度15～35℃. |
| 关 键 词： | 铜 合金 化学抛光 稀酸 |
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