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原位生长法制备HKUST-1陶瓷纳滤膜及其染料截留性能
引用本文:庞龙,张彦彦,刘惠美,黄子玲,金宝丹,曹霞.原位生长法制备HKUST-1陶瓷纳滤膜及其染料截留性能[J].河南师范大学学报(自然科学版),2023(1):97-106.
作者姓名:庞龙  张彦彦  刘惠美  黄子玲  金宝丹  曹霞
作者单位:郑州轻工业大学材料与化学工程学院
基金项目:河南省科技攻关计划项目(202102210025);
摘    要:采用原位生长法在商品化陶瓷微孔膜基底依次涂覆γ-Al2O3和介孔二氧化硅层,通过使HKUST-1在介孔硅表面可控结晶,制备了一种HKUST-1复合陶瓷纳滤膜,并对其形貌和结构进行了表征.通过对反应温度、前驱体溶液物质配比、反应时间、前驱体溶液浓度进行优化,研究了复合陶瓷纳滤膜对小分子有机染料去除性能的影响.以牛血清蛋白(BSA)为模型污染物,对复合陶瓷纳滤膜的抗污染性能进行了评价.结果表明,0.34 mol·L-1Cu(NO3)2与0.14 mol·L-1 H3BTC在100℃下反应12 h,制备的复合陶瓷纳滤膜对亚甲基蓝、甲基橙、铬黑T、罗丹明B、酸性品红、刚果红的去除率为20%~99%,通量为17.2~39.8 L·m-2·h-1.复合陶瓷纳滤膜的通量恢复率为61.8%,通量下降率为60%,表现出较好的抗污染性能.

关 键 词:HKUST-1  陶瓷纳滤膜  染料  分离性能
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