原位生长法制备HKUST-1陶瓷纳滤膜及其染料截留性能 |
| |
引用本文: | 庞龙,张彦彦,刘惠美,黄子玲,金宝丹,曹霞.原位生长法制备HKUST-1陶瓷纳滤膜及其染料截留性能[J].河南师范大学学报(自然科学版),2023(1):97-106. |
| |
作者姓名: | 庞龙 张彦彦 刘惠美 黄子玲 金宝丹 曹霞 |
| |
作者单位: | 郑州轻工业大学材料与化学工程学院 |
| |
基金项目: | 河南省科技攻关计划项目(202102210025); |
| |
摘 要: | 采用原位生长法在商品化陶瓷微孔膜基底依次涂覆γ-Al2O3和介孔二氧化硅层,通过使HKUST-1在介孔硅表面可控结晶,制备了一种HKUST-1复合陶瓷纳滤膜,并对其形貌和结构进行了表征.通过对反应温度、前驱体溶液物质配比、反应时间、前驱体溶液浓度进行优化,研究了复合陶瓷纳滤膜对小分子有机染料去除性能的影响.以牛血清蛋白(BSA)为模型污染物,对复合陶瓷纳滤膜的抗污染性能进行了评价.结果表明,0.34 mol·L-1Cu(NO3)2与0.14 mol·L-1 H3BTC在100℃下反应12 h,制备的复合陶瓷纳滤膜对亚甲基蓝、甲基橙、铬黑T、罗丹明B、酸性品红、刚果红的去除率为20%~99%,通量为17.2~39.8 L·m-2·h-1.复合陶瓷纳滤膜的通量恢复率为61.8%,通量下降率为60%,表现出较好的抗污染性能.
|
关 键 词: | HKUST-1 陶瓷纳滤膜 染料 分离性能 |
|
|