首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

晶片键合界面应力分布的理论分析
引用本文:周震,孔熹峻,黄永清,任晓敏.晶片键合界面应力分布的理论分析[J].半导体学报,2003,24(11).
作者姓名:周震  孔熹峻  黄永清  任晓敏
作者单位:北京邮电大学,北京,100876
摘    要:根据双金属带的热应力分布理论,推导了晶片键合以及薄膜键合的界面应力分布公式.对影响晶片键合的剪切应力、正应力以及剥离应力的分布特性进行了讨论.

关 键 词:键合  剪应力  正应力  剥离应力

Theoretical Analysis of Stresses in Interface of Bonded Wafers
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号