锗(Ge)(Ⅳ)-P-CIPF-混合离子表面活化剂显色反应的研究和应用 |
| |
引用本文: | 王献科,李玉萍.锗(Ge)(Ⅳ)-P-CIPF-混合离子表面活化剂显色反应的研究和应用[J].湿法冶金,1994(1). |
| |
作者姓名: | 王献科 李玉萍 |
| |
作者单位: | 兰州市东岗东路1号钢厂 |
| |
摘 要: | 本文研究了锗(Ⅳ)在混合离子表面活化剂(CPB、TritonX-100)存在下与P-CIPF形成多元配合物的显色特性。在1.5-4.0mol/LH_2SO_4介质中,Ge(Ⅳ)-P-CIPF-混合离子表面活化剂生成橙红色配合物,最大吸收波长(λ_(max))位于515nm处,其摩尔吸光系数为ε_(515)=2.8×10 ̄5L·mol ̄(-1)·cm ̄(-1)。配合物的组成比为Ge:CIPF=1:3(在混合离子表面活化剂存在时)。在0-12βμg/Ge50mL范围内符合比尔定律。本法具有良好的选择性,完全不经分离或富集。已成功地用于直接测定人参、枸杞、当归、大蒜和锅炉烟尘中的微量锗。
|
关 键 词: | 锗,对氯基荧光酮,混合表面活化剂 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|