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空穴型Si/SiGe共振隧穿二极管及其直流参数提取
引用本文:熊晨荣,王燕,陈培毅,余志平.空穴型Si/SiGe共振隧穿二极管及其直流参数提取[J].清华大学学报(自然科学版),2005,45(1):133-136.
作者姓名:熊晨荣  王燕  陈培毅  余志平
作者单位:清华大学,微电子学研究所,北京,100084;清华大学,微电子学研究所,北京,100084;清华大学,微电子学研究所,北京,100084;清华大学,微电子学研究所,北京,100084
基金项目:国家"九七三"基础研究基金项目(2002CB311907);国家自然科学基金资助项目(69836020,10075029);国家教育振兴计划资助项目(JZ2001010)
摘    要:共振隧穿二极管因其特有的负微分电阻特性,成为一种很有前途的基于能带工程的异质结构量子器件.采用超高真空外延技术,以p型重掺杂硅为衬底生长出以4 nm厚Si0.6Ge0.4层为空穴量子阱、以4 nm厚Si层为空穴势垒的双势垒单量子阱结构.然后用常规半导体器件工艺制成了空穴型共振隧穿二极管.在室温下对面积为8 μm×8 μm的共振隧穿二极管进行测量,其峰值电流密度为45.92 kA/cm2, 电流峰谷比为2.21. 根据测量得到的电流电压特性考虑串联电阻的影响,提取出共振隧穿二极管的直流参数.可以利用这些参数将共振隧穿二极管的直流模型加入SPICE电路模拟软件器中进行共振隧穿二极管电路设计.

关 键 词:共振隧穿二极管  SiGe  负微分电阻  曲线拟合
文章编号:1000-0054(2005)01-0133-04
修稿时间:2003年12月30

p-well Si/SiGe-based resonant tunneling diode DC parameters
XIONG Chenrong,WANG Yan,CHEN Peiyi,Yu Zhiping.p-well Si/SiGe-based resonant tunneling diode DC parameters[J].Journal of Tsinghua University(Science and Technology),2005,45(1):133-136.
Authors:XIONG Chenrong  WANG Yan  CHEN Peiyi  Yu Zhiping
Abstract:
Keywords:resonant  tunneling diodes (RTD)  SiGe  negative differential resistance  curve fitting
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
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