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脉冲激光沉积制备的HT-LiCoO2薄膜中Li离子表观扩散的研究
引用本文:张耀,钟志源,朱敏.脉冲激光沉积制备的HT-LiCoO2薄膜中Li离子表观扩散的研究[J].金属学报,2007,43(8):818-822.
作者姓名:张耀  钟志源  朱敏
作者单位:1. 华南理工大学机械工程学院,广州,510641
2. 香港城市大学物理与材料科学系,香港
基金项目:教育部长江学者与创新团队发展计划项目 , 广东省自然科学基金
摘    要:采用脉冲激光沉积(PLD)方法在镀Pt的Si衬底上制备了LiCoO2薄膜,运用XRD、Raman光谱、SEM和循环伏安等方法对其结构与电化学性能进行表征,在此基础上着重采用电位间歇滴定技术(PITT)对其Li离子表观扩散进行了分析.结果表明,600 ℃制备的LiCoO2薄膜为HT-LiCoO2相,呈柱状晶结构,平均晶粒尺寸在100 nm以下,结晶度高,并且具有明显的001]择优取向,但少量缺Li.伏安循环曲线表明,该LiCoO2薄膜具有良好的电化学可逆性,但只在3.9 V(vs Li/Li )附近出现一对氧化还原峰.PITT测试表明,PLD方法制备的HT-LiCoO2薄膜的Li离子扩散系数在10-8-10-9cm2/s,与其它方法(如射频磁控溅射)制备的HT-LiCoO2薄膜相比,扩散系数高1-2个数量级;并且PLD方法制备的HT-LiCoO2薄膜中Li离子扩散系数与相变有关,在两相共存区,由于相界钉扎的作用,Li离子扩散系数比其它区域小1-2个数量级.

关 键 词:LiCoO2  脉冲激光沉积  薄膜电池  Li离子扩散  脉冲激光沉积  薄膜  离子扩散系数  研究  METHOD  PULSED  LASER  DEPOSITION  FILMS  DIFFUSION  区域  作用  钉扎  相共存  相变  膜相  射频磁控溅射  法制  测试  氧化还原  可逆性  电化学
文章编号:0412-1961(2007)08-0818-05
收稿时间:2006-12-04
修稿时间:2006-12-042007-03-16

PITT investigation of apparent diffusion of lithium-ion through PLD-deposited HT-LiCoO2 films
ZHANG Yao,CHUNG Chiyuen,ZHU Min.PITT investigation of apparent diffusion of lithium-ion through PLD-deposited HT-LiCoO2 films[J].Acta Metallurgica Sinica,2007,43(8):818-822.
Authors:ZHANG Yao  CHUNG Chiyuen  ZHU Min
Affiliation:1. School of Mechanical Engineering, South China University of Technology, Guangzhou 510641 ;2. Department of Physics and Materials Science, City University of Hong Kong, Hong Kong
Abstract:
Keywords:LiCoO2  pulsed laser deposition  thin film battery  Li ion diffusion
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