金刚石膜上电子束蒸镀Ti／Ni／Au多层膜

经过相图分析提出了CVD金刚石膜上蒸镀Ti／Ni／Au的体系。采用该体系、富氧预处理工艺和电子束真空镀膜方法，金刚石膜和多层金属膜之间获得了良好结合强度。研究发现：富氧预处理对多金属膜和金刚石膜之间的结合强度影响显著。进一步利用俄歇电子能谱(AES)证实：C向Ti中扩散层有150nm之多，并出现了厚度约为90nm稳定含量层，说明有确定化学比的反应产物生成；富氧处理在金刚石膜与Ti金属层之间增加了氧的含量，为形成TiO和TiC提供了合适的条件。