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| 气相色谱法测定薄膜中氢含量 | |
| 引用本文： | 吕惠云,陈克铭.气相色谱法测定薄膜中氢含量[J].半导体学报,1993,14(3):189-193. |
| 作者姓名： | 吕惠云 陈克铭 |
| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所，北京100083 |
| 摘 要： | 本文介绍用气相色谱法测定氮化硅膜,非晶硅膜,氮化硼膜中的总氢含量及不同温度下氢的热释放率。该方法灵敏度高,简便准确可靠,样品量少,并且不需作特殊处理,可进行定量测定。 |
| 关 键 词： | 氮化硅膜 非晶硅膜 测量 气相色谱 |
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