| 微晶、石英、光学、电子玻璃纳米磨料CMP技术的研究项目通过鉴定 |
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| 引用本文： | 学.微晶、石英、光学、电子玻璃纳米磨料CMP技术的研究项目通过鉴定[J].河北工业大学学报,2005,34(2):23. |
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| 作者姓名： | 学 |
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| 摘 要： | 2004年12月10日，天津市科委组织并召开了“微晶、石英、光学、电子玻璃纳米磨料CMP技术的研究”项目成果鉴定会．该项目针对微晶、石英、光学、电子玻璃化学机械全局平坦化(CMP)中亟待解决的机理、技术和抛光液等问题，在大量实验的基础上，确立了微晶、石英、光学、电子玻璃的CMP机理模型；采用改进型1号液为微晶、石英、光学、电子玻璃代替了目前广泛使用的对人体有害、易造成污染的丙酮、重铬酸钾和浓硫酸洗液；加入FA／O表面活性剂，加快表面质量传递，保证在凸起处与凹陷处抛光速率选择性好，从而保证了平整度，有效降低了表面粗糙度且便于清洗；
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| 关 键 词： | 电子玻璃 CMP技术 纳米磨料 微晶 石英 光学 通过鉴定 研究项目 2004年12月 表面活性剂 表面粗糙度 机理模型 重铬酸钾 质量传递 抛光速率 天津市 鉴定会 平坦化 抛光液 改进型 酸洗液 A／O 平整度 丙酮 硫 |
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