| 三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率 |
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| 引用本文： | 柏启明,黄兴友,薛慧丽,李洪毅.三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率[J].吉首大学学报(自然科学版),2022,43(2):31-37. |
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| 作者姓名： | 柏启明 黄兴友 薛慧丽 李洪毅 |
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| 作者单位： | (吉首大学数学与统计学院，湖南 吉首 416000) |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(12161040，11961027)；湖南省自然科学基金资助项目(2020JJ4497，2021JJ30550)；湖南省教育厅重点项目(19A403)；湖南省研究生科研创新项目(CX20211054)；吉首大学科研项目(JDY21009，JDY20057) |
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| 摘 要： | 为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系，在中心化L2-偏差度量下，建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系，对于强度为3的三水平正交表，最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计，获得了均匀性模式紧的下界，该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.
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| 关 键 词： | 最小低阶投影均匀设计 设计效率 正交设计 中心化L2-偏差 下界 |
Design Efficiency of Three-Level Minimum Projection Uniform Designs |
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| BAI Qiming,HUANG Xingyou,XUE Huili,LI Hongyi.Design Efficiency of Three-Level Minimum Projection Uniform Designs[J].Journal of Jishou University(Natural Science Edition),2022,43(2):31-37. |
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| Authors: | BAI Qiming HUANG Xingyou XUE Huili LI Hongyi |
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| Affiliation: | (College of Mathematics and Statistics，Jishou University，Jishou 416000，Hunan China) |
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| Abstract: | Under the centered L2-discrepancy，the analytical relationship between the uniformity pattern and design efficiency of three-level orthogonal designs with strength 2 is established.For the three-level orthogonal arrays with strength 3，the minimum projection uniformity criterion is equivalent to the design efficiency criterion.For the three-level designs，a tight lower bound of the uniformity pattern is obtained，which can measure whether the design is the minimum projection uniform design. |
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| Keywords: | |
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