| LPCVD淀积速率分布的解析表达式 |
| |
| 引用本文： | 王永发,张世理,王季陶. LPCVD淀积速率分布的解析表达式[J]. 半导体学报, 1989, 10(8): 592-600 |
| |
| 作者姓名： | 王永发 张世理 王季陶 |
| |
| 作者单位： | 复旦大学材料系 上海(王永发，张世理)，复旦大学材料系 上海(王季陶) |
| |
| 摘 要： | 通过引入轴向反应源转化率η(x)和径向反应源转化率η_f(ρ),分别导得了淀积速率在卧式反应器中沿轴向及径向分布的解析表达式.从中可以清楚地看出反应器几何参数以及工艺参数对淀积速率分布的影响.将其用于对多晶硅淀积的模拟,与实验结果相符很好.
|
| 关 键 词： | LPCVD 化学 气相淀积 集成电路 |
Analytical Expression of Deposition Rate Distribution in LPCVD |
| |
| Wang Yongfa/Materials Science Department,Fudan University,ShanghaiZhang Shili/Materials Science Department,Fudan University,ShanghaiWang Jitao/Materials Science Department,Fudan University,Shanghai. Analytical Expression of Deposition Rate Distribution in LPCVD[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 1989, 10(8): 592-600 |
| |
| Authors: | Wang Yongfa/Materials Science Department Fudan University ShanghaiZhang Shili/Materials Science Department Fudan University ShanghaiWang Jitao/Materials Science Department Fudan University Shanghai |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Simulation LPCVD |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《半导体学报》下载全文 |
|
