| 电子束蒸发沉积TiO2薄膜结构及光学性能的研究 |
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| 引用本文： | 王学华,薛亦渝,赵利,张幼陵.电子束蒸发沉积TiO2薄膜结构及光学性能的研究[J].武汉理工大学学报,2002,24(11):11-14. |
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| 作者姓名： | 王学华 薛亦渝 赵利 张幼陵 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学 |
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| 摘 要： | 研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在 K9玻璃上 Ti O2 薄膜的结构和光学性能的影响。正交试验结果表明 ,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素 ,制备 Ti O2 薄膜的最佳工艺参数为 :基片温度 30 0℃ ,工作真空 2× 10 - 2 Pa,沉积速率 0 .2 nm/ s。采用最佳工艺沉积在透明基片上的 Ti O2 薄膜在可见光区具有良好的透过特性 ,同时也得出了薄膜的光学带隙能 Eg=3.77e V。 SEM观察结果表明薄膜为柱状纤维结构 ,柱状纤维的直径在 10 0～ 15 0 nm之间
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| 关 键 词： | 电子束蒸发沉积 薄膜结构 光学性能 TiO2薄膜 光学薄膜 二氧化钛薄膜 |
| 文章编号： | 1671-4431(2002)11-0011-04 |
| 修稿时间： | 2002年7月8日 |
Study on the Structure and Optical Properties of TiO2 Thin Films Deposited by Reactive Electron Beam Evaporation |
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| Wang Xuehua Xue Yiyu Zhao Li Zhang Youlin Student for Ph. D.,School of Materials Science and Engineering,WUT,Wuhan ,China..Study on the Structure and Optical Properties of TiO2 Thin Films Deposited by Reactive Electron Beam Evaporation[J].Journal of Wuhan University of Technology,2002,24(11):11-14. |
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| Authors: | Wang Xuehua Xue Yiyu Zhao Li Zhang Youlin Student for Ph D School of Materials Science and Engineering WUT Wuhan China |
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| Affiliation: | Wang Xuehua Xue Yiyu Zhao Li Zhang Youlin Student for Ph. D.,School of Materials Science and Engineering,WUT,Wuhan 430070,China. |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | reactive electron beam evaporation titanium oxide optical thin film |
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