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| Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究 | |
| 引用本文： | 王振军,常香荣,闻立时,田中卓,肖纪美.Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究[J].真空科学与技术学报,1995(4). |
| 作者姓名： | 王振军 常香荣 闻立时 田中卓 肖纪美 |
| 作者单位： | 北京科技大学材料物理系!北京100083(王振军，常香荣，田中卓，肖纪美)，北京科技大学材料物理系!北京100083中国科学院金属研究所沈阳110015(闻立时) |
| 摘 要： | 用磁控溅射技术制备了周期性良好的Fe－N／Ti-N纳米多层膜。Ti-N单层的厚度固定为3nm，Fe－N单层的厚度在2．5～11nm之间变化。用振动样品磁强计研究了样品的磁性，用X射线衍射研究了样品的结构。发现在Fe－N层较薄的样品中，饱和磁化强度明显提高，而矫顽力在所有样品中基本相同。 |
| 关 键 词： | Fe－N／Ti－N 纳米多层膜 磁控溅射 |
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