| 退火温度对PVDF薄膜结构的影响及其性能研究 |
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| 引用本文： | 仝金雨,姜胜林,刘栋,金学淼.退火温度对PVDF薄膜结构的影响及其性能研究[J].功能材料,2006,37(10):1569-1571. |
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| 作者姓名： | 仝金雨 姜胜林 刘栋 金学淼 |
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| 作者单位： | 华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)
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新世纪优秀人才支持计划 |
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| 摘 要： | 通过拉伸工艺,在不同的退火温度下,制备了PVDF薄膜,用XRD分析了退火温度对拉伸PVDF薄膜β相含量的影响.实验结果表明,退火温度为120℃时,β相的含量达到最大值,薄膜呈现明显的铁电性,矫顽场接近1.0mV/cm,电位移D为5μC/cm2.在25℃时,薄膜的热释电系数p为0.3×10-8C/cm2·K.
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| 关 键 词： | PVDF 热释电性 铁电性 |
| 文章编号： | 1001-9731(2006)10-1569-03 |
| 收稿时间： | 2006-04-07 |
| 修稿时间： | 2006-08-08 |
Study on influence of anneal temperature on PVDF films and their performance |
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| TONG Jin-yu,JIANG Sheng-lin,LIU Dong,JIN Xue-miao.Study on influence of anneal temperature on PVDF films and their performance[J].Journal of Functional Materials,2006,37(10):1569-1571. |
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| Authors: | TONG Jin-yu JIANG Sheng-lin LIU Dong JIN Xue-miao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PVDF pyroelectricity ferroelectricity |
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