| 含硅基、芴基的空穴材料制备与结构表征 |
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| 引用本文： | 杨杰,吕宏飞,白雪峰,吴绵园,梅立鑫,刘洋.含硅基、芴基的空穴材料制备与结构表征[J].化学与粘合,2019,41(4). |
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| 作者姓名： | 杨杰 吕宏飞 白雪峰 吴绵园 梅立鑫 刘洋 |
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| 作者单位： | 黑龙江省科学院 石油化学研究院,黑龙江 哈尔滨,150040;黑龙江省科学院 石油化学研究院,黑龙江 哈尔滨,150040;黑龙江省科学院 石油化学研究院,黑龙江 哈尔滨,150040;黑龙江省科学院 石油化学研究院,黑龙江 哈尔滨,150040;黑龙江省科学院 石油化学研究院,黑龙江 哈尔滨,150040;黑龙江省科学院 石油化学研究院,黑龙江 哈尔滨,150040 |
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| 基金项目： | 黑龙江省科学院科学研究基金 |
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| 摘 要： | 以三苯基氯硅烷、对溴碘苯、对氯苯硼酸、N-(4-联苯基)-9,9-二甲基-2-氨基芴等为原料通过低温加成、Suzuki偶联及乌尔曼反应合成了含有硅、芴结构的空穴材料。在乌尔曼反应中,通过对Pd催化剂用量的考察,确定了乌尔曼反应催化剂的最低用量为千分之一当量;目标化合物通过热性质分析,确定目标化合物热分解温度为436℃;通过紫外-可见光谱分析,确定目标化合物紫外最大吸收波长为361nm,根据其最大吸收波长(361nm),由光学带隙能公式,得出目标化合物的光学带隙为3.45e V。
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| 关 键 词： | 空穴材料 三苯基氯硅烷 HTFSi |
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