| 平面光电器件的纳米级高速研磨 |
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| 引用本文： | 王黎明,田春林,周化文.平面光电器件的纳米级高速研磨[J].长春理工大学学报,2004,27(3):18-19. |
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| 作者姓名： | 王黎明 田春林 周化文 |
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| 作者单位： | 长春理工大学,科技开发中心,长春,130022;长春理工大学,科技开发中心,长春,130022;长春理工大学,科技开发中心,长春,130022 |
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| 摘 要： | 论文探讨了采用固着磨料高速研磨进行纳米级加工的有关问题.采用固着磨料高速研磨加工技术加工光电器件,使工件已加工表面粗糙度达Ra2.88nm, 平面度达19nm,不仅实现了纳米级加工,而且还实现了高效率、低成本加工.
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| 关 键 词： | 光电器件 纳米级加工 高速研磨 |
| 文章编号： | 1004-485X(2004)03-0018-02 |
| 修稿时间： | 2004年6月10日 |
High Speed Nanometer Lapping Photoelectric Elements |
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| WANG liming,TIAN Chunlin,ZHOU Huawen.High Speed Nanometer Lapping Photoelectric Elements[J].Journal of Changchun University of Science and Technology,2004,27(3):18-19. |
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| Authors: | WANG liming TIAN Chunlin ZHOU Huawen |
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| Abstract: | In the paper, some problems about high speed nanometer l apping with solid abrasives was discussed.A high speed solid abrasives lapping t echnology was used for machining photoelectric elements. The result shown that t he surface roughness of workpiece reached to Ra288nm and flatness reached 19nm . The technology not only realized nanometer machining but also realized machini ng at high efficiency and low cost. |
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| Keywords: | nanometer photoelectric elements high speed lapping |
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