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0.2秒圆刻机的基本原理
引用本文:邹自强.0.2秒圆刻机的基本原理[J].光学精密工程,1983,0(2):1-11.
作者姓名:邹自强
摘    要:本文根据作者所搜集到的资料综述了圆刻机的发展历史,在漫长的发展过程中大体经历了抄录刻划、机械刻划和光电刻划三个阶段,中国古代曾对刻划技术的发展作出过重要贡献。列表说明了世界上圆刻机生产及研制现状。本文介绍了长春光机所近十几年来研究成功的一种光电圆刻方法,它的特点是:利用传统的机械方法进行分度粗定位,而后再用光电伺服控制对误差进行微量校正。

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