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ZnO纳米线阵列/p-Si异质结的合成及其整流特性
引用本文:程萍,田永涛,王文闯,徐玉睿,何豪,王新昌,李新建.ZnO纳米线阵列/p-Si异质结的合成及其整流特性[J].郑州大学学报(理学版),2011(3).
作者姓名:程萍  田永涛  王文闯  徐玉睿  何豪  王新昌  李新建
作者单位:郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室;
基金项目:国家自然科学基金资助项目,编号50602040,10574112; 河南省重大科技攻关项目,编号082101510007; 教育部科学技术重点研究项目,编号208048; 河南省教育厅自然科学基金资助项目,编号2007140018
摘    要:利用化学汽相沉积,在没有催化剂的p-Si衬底上一步合成ZnO纳米线阵列,构成ZnO阵列/p-Si异质结.电流-电压性能测试显示该结构具有较好的整流特性,漏电流较小,4V时约为0.05 mA.异质结理想因子偏高,1.86(0.5~2.25 V)和5.92(在2.25~2.7V),主要原因可能ZnO纳米线阵列底与Si之间存在较高的缺陷密度.提供了一种简单的合成ZnO阵列/p-Si异质结方法,不需要在Si衬底上预先合成ZnO缓冲层和催化剂,同时结构具有较好整流性能,对ZnO器件的设计合成及应用有一定的参考价值.

关 键 词:ZnO阵列  异质结  CVD法  整流  理想因子  

Rectifying Behavior of Synthesized ZnO Nanowire Arrays/p-Si Heterojunction
CHENG Ping,TIAN Yong-tao,WANG Wen-chuang,XU Yu-rui,HE Hao,WANG Xin-chang,LI Xin-jian.Rectifying Behavior of Synthesized ZnO Nanowire Arrays/p-Si Heterojunction[J].Journal of Zhengzhou University:Natural Science Edition,2011(3).
Authors:CHENG Ping  TIAN Yong-tao  WANG Wen-chuang  XU Yu-rui  HE Hao  WANG Xin-chang  LI Xin-jian
Affiliation:CHENG Ping,TIAN Yong-tao,WANG Wen-chuang,XU Yu-rui,HE Hao,WANG Xin-chang,LI Xin-jian(Key Laboratory of Material Physics Ministry of Education,School of Physics and Engineering,Zhengzhou University,Zhengzhou 450052,China)
Abstract:
Keywords:ZnO nanowire arrays  heterojunction  CVD method  rectification  ideal factor  
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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