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基于微结构的银纳米线透明导电薄膜的光电性能北大核心
引用本文:潘丽君李阳何鑫蔡俊韬包绵腾吴明建张美庆陈锏中董秋彤.基于微结构的银纳米线透明导电薄膜的光电性能北大核心[J].微纳电子技术,2018(8):551-556.
作者姓名:潘丽君李阳何鑫蔡俊韬包绵腾吴明建张美庆陈锏中董秋彤
作者单位:1.五邑大学应用物理与材料学院;
基金项目:广东省自然科学基金项目(2015A030313645);广东省教育厅教育科学项目(2014GXJK097);广东省教育厅科研团队项目(2015KCXTD027);广东省教育厅重点平台建设跃升计划工程中心项目(GCZX-A1411);广东省大学生创新创业训练项目(201410030512,201410030513)
摘    要:首先,采用光刻技术并结合湿法刻蚀工艺,在玻璃衬底上制备出蜂窝状分布的圆台阵列微结构,从占空比和反射、透射光线分布的角度分析其光学性能。然后,采用水热法制备银纳米线,并对样品进行X射线衍射(XRD)物相分析和扫描电子显微镜(SEM)微观形貌表征,得到平均直径为80 nm、长度为110μm、长径比大于1 000的超细长银纳米线。最后,通过浓硫酸和双氧水的混合溶液对微结构表面改性,并采用变速旋涂法将银纳米线与微结构完美嵌合,从而制备出基于玻璃衬底上圆台阵列微结构的银纳米线透明导电薄膜,其光电性能优良,测得其可见光透过率为85.97%、方块电阻平均值为23.1Ω/□。

关 键 词:微结构  银纳米线  透明导电薄膜  湿法刻蚀  变速旋涂法
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