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铝离子注入Si3N4陶瓷的抗氧化性能
引用本文:冯建基,李国卿,张长瑞,牟宗信,齐民,刘洪泽,周新贵.铝离子注入Si3N4陶瓷的抗氧化性能[J].硅酸盐学报,2004,32(9):1060-1063.
作者姓名:冯建基  李国卿  张长瑞  牟宗信  齐民  刘洪泽  周新贵
作者单位:1. 大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024
2. 国防科技大学,长沙,410011
摘    要:针对高精密氮化硅陶瓷器件的需求,采用金属蒸发真空电弧离子注入机进行金属Al+3注入Si3N4,并对其抗氧化性能进行了研究.注入能量为40 keV,注入剂量分别为5×1016 ion/cm2和2×1017 ion/cm2.在1 200 ℃,长达77 h,对Si3N4的循环氧化行为进行了实验研究.用SEM,XRD和EDS等方法对样品进行了观察和分析.结果表明Al+3注入提高了Si3N4样品的抗氧化性能,氧化质量变化符合抛物线规律.原始Si3N4样品的氧化层较厚,与基体有较明显的分层现象;注入铝的Si3N4试样氧化层较薄和致密,与基体没有明显的分层现象,电子价态分析表明注入的金属铝形成的氧化铝是提高Si3N4抗氧化性能的主要原因.

关 键 词:氮化硅  离子注入  氧化  
文章编号:0454-5648(2004)09-1060-04
修稿时间:2004年1月15日

OXIDATION RESISTANCE OF Si3N4 CERAMICS WITH ALUMINUM ION IMPLANTATION
FENG Jianji.OXIDATION RESISTANCE OF Si3N4 CERAMICS WITH ALUMINUM ION IMPLANTATION[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2004,32(9):1060-1063.
Authors:FENG Jianji
Affiliation:FENG Jianji~
Abstract:
Keywords:silicon nitride  ion implantation  oxidation  aluminum
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