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| 微氮硅单晶热处理性质研究 | |
| 引用本文： | 杨德仁,姚鸿年,阙端麟.微氮硅单晶热处理性质研究[J].半导体学报,1994,15(6):402-408. |
| 作者姓名： | 杨德仁 姚鸿年 阙端麟 |
| 作者单位： | 浙江大学高纯硅及硅烷国家重点实验室 |
| 摘 要： | 实验对微氮硅单晶进行了不同温度、时间、时序的热处理研究，着重调查了硅晶体中氮杂质浓度在热处理时的变化．实验指出，热处理时氛浓度的下降取决于样品热历史，热处理温度及其它杂质的影响，实验发现微氮样品高温热处理时，氮浓度消失，低温再退火时氮浓度重新回升，以及碳杂质抑制氮浓度下降的新事实，并结合红外吸收光谱的研究，提出微氮硅单晶中存在稳定性不同的二种氧氮复合体的观点． |
| 关 键 词： | 硅单晶 热处理 氮 性能 |
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