首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

无烧结助剂SiC陶瓷的高压烧结研究
引用本文:谢茂林,罗德礼,鲜晓斌,冷邦义,陈伟,鲁伟员,范辉.无烧结助剂SiC陶瓷的高压烧结研究[J].中国陶瓷,2009,45(1).
作者姓名:谢茂林  罗德礼  鲜晓斌  冷邦义  陈伟  鲁伟员  范辉
作者单位:谢茂林,罗德礼,鲜晓斌,冷邦义,陈伟,范辉,Xie Maolin,Luo Deli,Xian Xiaobin,Leng Bangyi,Chen Wei,Fan Hui(中国工程物理研究院,绵阳,621900);鲁伟员,Lu Weiyuan(四川艺精超硬材料有限公司,江油,621700)  
摘    要:以纳米SiC为原料,用两面顶压机在不同工艺条件下(1100-1300℃,4.0-4.5GPa,20-35min)实现了无烧结助剂添加的SiC陶瓷体的烧结.研究了烧结工艺对SiC陶瓷性能的影响.用XRD、SEM、显微硬度测试仪等对SiC高压烧结体进行了表征.结果表明:采用超高压工艺可实现无烧结助剂SiC陶瓷高致密化烧结;烧结体晶粒长大得到抑制,维持在纳米级,晶格常数收缩发生了收缩;烧结体显微硬度和密度随烧结温度、烧结压力、保温时间的升高或延长而提高.在4.5GPa/1250℃/35min的超高压烧结条件下烧结的无烧结助剂SiC致密度达到96%,且显微硬度达到Hv1.96 3850.

关 键 词:碳化硅  烧结  超高压

ULTRA-HIGH PRESSURE SINTER NANO-SiC CERAMIC
Xie Maolin,Luo Deli,Xian Xiaobin,Leng Bangyi,Chen Wei,Lu Weiyuan,Fan Hui.ULTRA-HIGH PRESSURE SINTER NANO-SiC CERAMIC[J].China Ceramics,2009,45(1).
Authors:Xie Maolin  Luo Deli  Xian Xiaobin  Leng Bangyi  Chen Wei  Lu Weiyuan  Fan Hui
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号