镀液中金属离子浓度比对化学镀Ni-Co-P薄膜的形貌及磁性能的影响

采用化学镀法在硅基底上直接施镀了Ni-Co-P磁性薄膜，通过调整镀液中金属盐浓度比控制镀层中镍、钴含量，优化薄膜软磁性能。采用SEM、EDAX、XRD和VSM研究了镀液中不同的镍、钴浓度比对薄膜形貌、成分、厚度、镀速、结构和磁性能的影响。结果表明：化学镀Ni-Co-P薄膜由瘤状Ni-Co颗粒组成，镀态的Ni-Co-P镀层由非晶相构成。随着镀液中Co²⁺浓度的增加，镀层中Co元素的含量增多，Ni元素的含量降低，但镀层的镀速减缓，当镀液中Co²⁺含量过高时，施镀非常困难，而镀液中金属盐浓度比对镀层中非金属元素P的沉积量影响不大。Ni-Co-P合金薄膜的饱和磁化强度随着镀层中Co元素含量的增加有上升趋势，矫顽力同时呈现下降趋势。当镀液中c(Ni²⁺)∶c(Co²⁺)=2∶3时，制备的Ni-Co-P镀层软磁性能最好，其饱和磁化强度达到820 emu/cc，矫顽力仅为4 Oe。