|
|||||
|
|
| 涤纶基布磁控溅射铜膜及其电磁屏蔽性能 | |
| 引用本文： | 孟灵灵,黄新民,魏取福.涤纶基布磁控溅射铜膜及其电磁屏蔽性能[J].印染,2013,39(16):1-5. |
| 作者姓名： | 孟灵灵 黄新民 魏取福 |
| 作者单位： | 1. 盐城工学院纺织服装学院,江苏盐城224051;江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡214122 2. 盐城工学院纺织服装学院,江苏盐城,224051 3. 江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡,214122 |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863)资助项目，教育部长江学者和创新团队发展计划 |
| 摘 要： | 以不同组织结构的涤纶织物为基材,采用射频磁控溅射技术沉积纳米铜膜,研究织物结构对金属薄膜表面形貌、粗糙度和晶态结构的影响,并测试分析了表面磁控溅射纳米铜膜的涤纶织物电磁屏蔽性能。结果显示,非织造布、纳米纤维膜表面沉积的纳米铜膜颗粒平均粒径及其表面的粗糙度值较大,Cu(111)晶面上结晶度较高;在孔隙率较小且纤维紧密连接的非织造布表面沉积纳米铜膜,其纤维表面形成连续导电网络,表现出优良的屏蔽效果。 |
| 关 键 词： | 功能性整理 磁控溅射 涤纶 纳米铜膜 电磁屏蔽 |
Structure of copper films on polyester fabrics by magnetron sputtering and its electromagnetic shielding properties |
|
| MENG Ling-ling , HUANG Xin-min , WEI Qu-fu.Structure of copper films on polyester fabrics by magnetron sputtering and its electromagnetic shielding properties[J].Dyeing and Finishing,2013,39(16):1-5. | |
| Authors: | MENG Ling-ling HUANG Xin-min WEI Qu-fu |
| Affiliation: | MENG Ling-ling;HUANG Xin-min;WEI Qu-fu;College of Textile & Clothing,Yancheng Institute of Technology;Key Laboratory of Eco-Textile,Ministry of Education,Jiangnan University; |
| Abstract: | |
| Keywords: | functional finish magnetron sputtering polyester nanoscale copper film electromagnetic shielding |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《印染》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《印染》下载全文 | |
