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RFID相关技术专利分析(三)
引用本文:孟宇,牛媛媛.RFID相关技术专利分析(三)[J].中国电子商情,2007(1).
作者姓名:孟宇  牛媛媛
作者单位:信息产业部软件与集成电路促进中心MII—Thomson 知识产权实验室,信息产业部软件与集成电路促进中心MII—Thomson 知识产权实验室
摘    要:RFID技术作为一项重要的非接触式识别枝术,近来发展迅猛。本文对RFID天线相关的技术进行了专利战略分析,主要包括:RFID天线相关整体行业分析、RFID标签天线和制造工艺等三个方面,分析了如下主要指标:申请年度发展趋势、主要申请人地区分布、IPC分布、DWPI分布、主要申请人分布、核心专利排名、专利地图。根据分析结果,本文给出了分析结论,对相关企业在专利利用、保护和管理方面给出了建议与对策。

关 键 词:RFID  天线  标签  工艺  专利  分析
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