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Ni+注入BiB3O6晶体光波导的折射率分布
引用本文:滕冰,陈峰,王继扬,董胜明,王正平.Ni+注入BiB3O6晶体光波导的折射率分布[J].压电与声光,2006,28(4):441-442.
作者姓名:滕冰  陈峰  王继扬  董胜明  王正平
作者单位:1. 青岛大学,物理系,山东,青岛,266071
2. 山东大学,物理系,山东,济南,250100
3. 山东大学,晶体材料国家重点实验室,山东,济南,250100
基金项目:国家自然科学基金资助项目(10304009)
摘    要:在室温下,采用BiB3O6晶体,切向沿着(111)晶面方向制成大小为6 mm×8 mm×1.5 mm晶体样品。首次采用能量3.0 MeV、剂量为1×1014ions/cm2的Ni 注入到BiB3O6样品的抛光面,形成平面光波导。注入过程中,样品表面法线方向与入射离子束方向成7°角。采用的氦氖激光器的工作波长为632.8 nm,用棱镜耦合法观察波导的暗模特性,测量每个导模的有效折射率。

关 键 词:波导  离子注入  有效折射率
文章编号:1004-2474(2006)04-0441-02
收稿时间:2005-01-18
修稿时间:2005年1月18日

The Refractive Index Profile of the Optical Waveguide Formed by MeV Ni+ Ion Implantation into BiB3O6 Crystal
TENG Bing,CHEN Feng,WANG Ji-yang,DONG Sheng-ming,WANG Zheng-ping.The Refractive Index Profile of the Optical Waveguide Formed by MeV Ni+ Ion Implantation into BiB3O6 Crystal[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2006,28(4):441-442.
Authors:TENG Bing  CHEN Feng  WANG Ji-yang  DONG Sheng-ming  WANG Zheng-ping
Abstract:
Keywords:waveguide  ion implantation  refractive index profile
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