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| 溅射工艺对MoS_2溅射膜性能的影响 | |
| 引用本文： | 朱昌铭,朱才录,张海,袁娟娟,徐锦芬.溅射工艺对MoS_2溅射膜性能的影响[J].摩擦学学报,1982,2(3). |
| 作者姓名： | 朱昌铭 朱才录 张海 袁娟娟 徐锦芬 |
| 作者单位： | 中国科学院兰州化学物理研究所 (朱昌铭，朱才录，张海，袁娟娟)，中国科学院兰州化学物理研究所(徐锦芬) |
| 摘 要： | 为了进一步认识溅射MoS_2的成膜机理和提高该膜的性能,作者进行了溅射工艺对该膜性能影响的研究并考察了溅射电压、氨气压力、镀层厚度、底材形态与膜的淀积速率和耐磨寿命间的关系。这些结果表明,膜的淀积速率,耐磨寿命受电压和气压的影响具有一定的规律,膜的生长状态随厚度的增长而有所变化,使膜的颜色由灰色逐渐变为烟黑色,相应的淀积速率也有明显的不同。 |
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