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石英音叉微细加工若干问题探讨
引用本文:唐琼,崔芳,廖兴才,孙雨南.石英音叉微细加工若干问题探讨[J].微细加工技术,2004(2):66-71.
作者姓名:唐琼  崔芳  廖兴才  孙雨南
作者单位:北京理工大学,信息科学与技术学院,光电工程系,北京,100081
基金项目:国家部委十五预研资助项目(00309060307)
摘    要:采用基于半导体工艺的光刻、化学腐蚀等微细加工方法在石英晶体基片上批量制作石英音叉。化学腐蚀石英音叉时,叉指的一个侧面中央有棱角,腐蚀速率先慢后快有利于棱角的消除,但去掉棱角的主要方法是增加腐蚀时问;实验探索了能够耐受长时问腐蚀液浸泡的Cr/Au掩模的制作方法和工艺,成功地腐蚀出石英音叉样品;选用黑白反相的十字套准标记进行石英音叉图形的双面光刻套准可以减小人为对准误差,腐蚀出的双面音叉图形的套准精度可小于3μm。石英晶体结构的三角对称性和Cr/Au掩模的耐腐蚀性是限制微细加工制作石英音叉达到理想形状的关键。

关 键 词:石英音叉  Cr/Au掩模  双面光刻  化学腐蚀
文章编号:1003-8213(2004)02-0066-06
修稿时间:2003年11月30

Investigation of Some Problems on Micromachining Processfor Quartz Tuning Fork
TANG Qiong,CUI Fang,LIAO Xing-cai,SUN Yu-nan.Investigation of Some Problems on Micromachining Processfor Quartz Tuning Fork[J].Microfabrication Technology,2004(2):66-71.
Authors:TANG Qiong  CUI Fang  LIAO Xing-cai  SUN Yu-nan
Abstract:
Keywords:quartz tuning fork  Cr/Au mask  double-side photolithography  chemical (etching)
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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