| 磁控溅射TiAIN和WTiN薄膜的制备与摩擦性能研究 |
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| 引用本文： | 李学超,李长生,晋跃,陈娟,莫超超,朱秉莹.磁控溅射TiAIN和WTiN薄膜的制备与摩擦性能研究[J].真空,2011,48(1). |
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| 作者姓名： | 李学超 李长生 晋跃 陈娟 莫超超 朱秉莹 |
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| 作者单位： | 1. 南京宝色股份公司,江苏,南京211178
2. 江苏大学材料学院,江苏,镇江,212013 |
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| 摘 要： | 采用双靶反应磁控溅射的方法在40Cr基体上制备了TiAlN薄膜和WTiN薄膜。用XRD,SEM,AFM等检测手段对薄膜的表面状态及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对TiAlN和WTiN薄膜的摩擦性能进行了评价。实验结果表明:TiAlN薄膜出现了两种硬质相TiN与TiAlN共存的物相结构,而WTiN薄膜出现了TiN0.6O0.4,TiN,W2N,WN等多种物相结构;制备的TiAlN、WTiN薄膜表面晶粒均匀细小,生长均以粒状结构为主;摩擦实验数据表明制备的TiAlN和WTiN薄膜均拥有良好的摩擦性能。
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| 关 键 词： | 双靶磁控溅射 TiAlN薄膜 WTiN薄膜 摩擦性能 |
Preparation of TiAIN and WTiN thin films by magnetron sputtering and their tribological performance |
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| LI Xue-chao,LI Chang-sheng,JIN Yue,MO Chao-chao,ZHU Bingying.Preparation of TiAIN and WTiN thin films by magnetron sputtering and their tribological performance[J].Vacuum,2011,48(1). |
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| Authors: | LI Xue-chao LI Chang-sheng JIN Yue MO Chao-chao ZHU Bingying |
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| Affiliation: | LI Xue-chao1,LI Chang-sheng2,JIN Yue2,MO Chao-chao2,ZHU Bingying2(1.Nanjing Baose Co.,Ltd,Nanjing 211178,China,2.School of Materials Science and Engineering,Jiangsu University,Zhenjiang,212013,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | double-target reactive magnetron sputtering TiAlN film WTiN film Tribological performance |
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