| 用射频化学气相沉积法制备p型微晶金刚石薄膜 |
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| 引用本文： | 姬荣斌,张志林.用射频化学气相沉积法制备p型微晶金刚石薄膜[J].无机材料学报,1996,11(2):333-336. |
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| 作者姓名： | 姬荣斌 张志林 |
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| 作者单位： | 厦门大学物理学系，上海科技大学材料科学系 |
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| 摘 要： | 利用射频化学气相沉积法，通过硼的掺杂，在石英玻璃衬底上生长出Ｐ型微晶金刚石薄膜，范德堡法的测试表明，我们得到的薄膜最小电阻率为４×１０－２Ω．ｃｍ，最大空穴迁移率为５０ｃｍ／Ｖ．ｓ；从电阻率与温度关系近似计算出杂质激活能
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| 关 键 词： | PCVD 金刚石 电阻率 化学气相沉积 薄膜 制备 |
Deposition p-Type Microcrystalline diamond Films on Quartz Grass Using Radio Frequency PCVD |
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| Ji Rongbin.Deposition p-Type Microcrystalline diamond Films on Quartz Grass Using Radio Frequency PCVD[J].Journal of Inorganic Materials,1996,11(2):333-336. |
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| Authors: | Ji Rongbin |
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| Keywords: | PCVD diamond electric resistivity hole mobility |
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