| 硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2的表面改性及其分散稳定性 |
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| 引用本文： | 苏瑞彩,李文芳,彭继华,杜军.硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2的表面改性及其分散稳定性[J].化工进展,2009,28(9). |
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| 作者姓名： | 苏瑞彩 李文芳 彭继华 杜军 |
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| 作者单位： | 华南理工大学材料科学与工程学院,广东,广州,510640 |
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| 摘 要： | 采用硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2实现表面改性,并利用透射电镜(TEM)、粒径分析、Zeta电位、红外光谱(FTIR)等方法对改性后纳米SiO2的表面结构和在有机介质中的分散稳定性进行分析表征。结果表明,通过硅烷偶联剂KH570表面改性后,颗粒表面覆盖了硅烷偶联剂的有机官能团,提高了SiO2纳米颗粒在水溶液中的Zeta电位,降低了颗粒团聚程度。改性后的纳米SiO2粉体在有机溶剂中的团聚块体尺寸明显减小,从200nm降低到不足100nm。
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| 关 键 词： | 纳米SiO2 表面改性 硅烷偶联剂 分散 |
Surface modification of nano-sized SiO2 with silane coupling agent and its dispersion |
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| SU Ruicai,LI Wenfang,PENG Jihua,DU Jun.Surface modification of nano-sized SiO2 with silane coupling agent and its dispersion[J].Chemical Industry and Engineering Progress,2009,28(9). |
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| Authors: | SU Ruicai LI Wenfang PENG Jihua DU Jun |
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